賽默飛thermo戴安淋洗液發生裝置

賽默飛thermo戴安淋洗液發生裝置 074535

戴安MSA 074535 淋洗液發生器用來電解產生高純度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液發生器能避免基線漂移，增加靈敏度，提高分離度，保證色譜峰積分良好重復性。戴安公司目前提供一系列的淋洗液發生罐產品，包括氫氧根體系淋洗液發生罐，碳酸根體系淋洗液發生罐和甲磺酸體系淋洗液發生罐
該高容量抑制器幾乎支持所有分析型 的 IC 應用，可用于陰離子和陽離子分析，提供 2mm 和 4mm 兩種規格。 Dionex ERS 500 抑制器在標準孔 (4 mm) 和微孔 (2 mm) 規格下適用于碳酸鹽（僅等度）、氫氧化物、甲基磺酸或硫酸淋洗液的等度或梯度應用。

Dionex CERS 500 Cation Electrolytically Regenerated Suppressor (4mm)

由于其具有較高的反壓耐受性（在高達 900 psi 的情況下無泄漏，在高達 200 psi 時進行操作），提高了聯用檢測技術的兼容性，

特別是質譜儀 

較高的溫度耐受性（在運輸和儲存中高達 80°C，操作時為 40°C） 

憑借其平面的填充床抑制槽，無電流操作后，無需試劑*電解再生即可輕松恢復 

低峰擴散保持 4μm 色譜柱的峰形效率

在無需化學再生的情況下重新啟動之后，其高抑制容量可立即產生穩定的峰面積值 

低噪音特性使抑制器適用于痕量分析 

為更可靠定量提高靈敏度 

與 Thermo Scientific Dionex CRD 300 碳酸鹽去除裝置配合使用時，Dionex ERS 500 抑制器在碳酸鹽淋洗液條件下，能夠降低背景電導和噪音、增強分析物響應和檢測靈敏度，從而提高定量的可靠性。 

對實現 Reagent-Free IC (RFIC) 操作十分重要 

無需試劑的*再生 

Dionex ERS 500 抑制器可直接替代 Thermo Scientific Dionex SRS 300自再生抑制器

賽默飛thermo戴安淋洗液發生裝置 074535

 型號：

074532 Potassium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III KOH) 
074532 Sodium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III NaOH)  
074534 Lithium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III LiOH)  
074536 Carbonate Eluent Generator Cartridge (EGC III K2CO3)  
080135 Electroytic pH Modifier (EPM III)  
074535 Methanesulfonic Acid Eluent Generator Cartridge (EGC III MSA)  
072076 EGC-KOH (Capillary) Cartridge 
072077 EGC-MSA (Capillary) Cartridge